1、鍍鉻的工藝條件：在鍍鉻過程中陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關(guān)系。

2、在同一溶液中鍍鉻時(shí)，通過調(diào)整溫度和電流密度，并控制在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，可以獲得光亮鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同性能的鍍鉻層，如圖4-20所示。

3、在低溫高電流密度區(qū)，鉻鍍層呈灰暗色或燒焦，這種鍍層具有網(wǎng)狀裂紋、硬度大、脆性大；高溫低電流密度區(qū)，鉻層呈乳白色，這種組織細(xì)致、氣孔少，無裂紋，防護(hù)性能較好，但硬度低，耐磨性差；中溫中電流密度區(qū)或兩者配合較好時(shí)，可獲得光亮鍍鉻層，這種鉻層硬度較高，有細(xì)而稠密的網(wǎng)狀裂紋。

【資料圖】

4、當(dāng)電流密度不變時(shí)，電流效率隨溫度升高而下降；若溫度固定，則電流效率隨電流密度的增大而增加。

5、然而，當(dāng)鉻酸酐與硫酸根離子比值減小時(shí)，變化相應(yīng)變小。

6、因此鍍硬鉻時(shí)，在滿足鍍層性能的前提下，通常采用較低的溫度和較高的陰極電流密度，以獲得較高的鍍層沉積速度。

7、溫度一定時(shí)，隨電流密度增加，鍍液的分散能力稍有改善；與此相反，電流密度不變，鍍液的分散能力隨鍍液溫度升高而有一定程度的減小。

8、生產(chǎn)上一般采用中等溫度（45～60℃）與中等電流密度（30～45A/dm2）以得到光亮和硬度較高的鉻鍍層。

9、盡管鍍?nèi)」饬铃儗拥墓に嚄l件相當(dāng)寬，考慮到鍍鉻液的分散能力特別差，在形狀復(fù)雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時(shí)，欲在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層，必須嚴(yán)格控制溫度和電流密度。

10、當(dāng)鍍鉻工藝條件確定后，鍍液的溫度變化最好控制在土（1～2）℃之間。

11、鍍鉻層具有很高的硬度，根據(jù)鍍液成分和工藝條件不同，其硬度可在很大范圍400～1200HV內(nèi)變化。

12、鍍鉻層有較好的耐熱性，在500℃以下加熱，其光澤性、硬度均無明顯變化，溫度大于500℃開始氧化變色，大于700℃硬度開始降低。

13、鍍鉻層的摩擦系數(shù)小，特別是干摩擦系數(shù)，在所有的金屬中是最低的。

14、所以鍍鉻層具有很好的耐磨性。

15、鍍鉻層具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性，在堿、硫化物、硝酸和大多數(shù)有機(jī)酸中均不發(fā)生作用，但能溶于氫氯酸（如鹽酸）和熱的硫酸中。

16、在可見光范圍內(nèi)，鉻的反射能力約為65%，介于銀（88%）和鎳（55%）之間，且因鉻不變色，使用時(shí)能長久保持其反射能力而優(yōu)于銀和鎳。

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